第1061章 什么是浸液系统
子激光、光刻胶、刻蚀机等能满足要求；如果再短，这些配套产品不一定能满足，最明显就是刻蚀系统、对准系统对于精度控制要求更高。”
“我们的光刻机，下一步需要在支持基片的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等进行全方位升级。”
“这些性能指标中，只有光源波长和我们没关系，其它都是我们光刻机研究所的研究内容。”
“我们都亲身经历了这次制作157nm，也发现很多问题。这次的有些改造能满足157nm的，但肯定不能满足更低波长的，所以我们下一步的任务很艰巨。”
刘芷菲偏头在龙建华耳边轻声说，“筠研张嘴就是一套套的专业名词，显得高深莫测。”
龙建华轻轻一笑，“你跑到人家专业团队里来，能听懂几个就很不错了。”
她轻哼一声，又坐正边吃边听各人的发言……
157nm芯片的推出，虽然无论研究院还是集团都没对外宣传，但还是有小道消息传出，马上引发业界震惊。
因为目前采用都是ArF准分子激光，其波长是193nm，大家在这个阶段停留的时间已经很久了；忽然之间出现157nm，等于突破了这一关口，意味着相关技术都取得了突破。
这个消息，让一大片人震惊，也让一大片人激动，更让一些人感觉有点酸，还让一些人很恼火。
有媒体来预约采访，可得到的答复要等十天，因为研究团队现在很忙。
他们当然很忙。
这里要申请专利，今后的思路也有可以申请专利的，也要组织编写。
还要对未来的研究还要讨论。那晚吃完饭后，整个团队放假三天，这三天不是没任务的，而是只有支配时间，但三天后要进行接下来的项目讨论。
这一讨论就是三天……
这三天中，有人猜测，重世研究院一定是采用了F2准分子激光，这种激光器