第1002章 有钱没人
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1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平，只是成品率很低。
1981年，中国科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机，也是一台样机，没有量产过产品。
1982年，科学院109厂的kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年，当然，也是没有量产过。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800dsw的水平。这应当是中国第一台分步投影式光刻机，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。但是很可惜，光刻机研发至此为止，中国开始大规模引进外资，有了"造不如买”的思想。光刻技术和产业化，停滞不前。放弃电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划直接被取消了。
九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达十几年，这个技术非常关键，这直接导致asml和台积电在线如此强势的关键，也是岛国尼康的光刻机消败的关键时期。
直接最近几年，光刻机研发重新被我们重视起来，可以说我们现在做这个东西，难度不亚于生产大飞机，影响力不低于当初研究原子弹。
前几年刚刚成立的smee沪市微电子装备有限公司承担了“十五”光刻机攻关项目，中电科45所把此前从事分步投影光刻机的团队迁到了沪市，参与这个项目。”
说完看了眼皱眉不语的张市韩主任几人